2015年第62回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

合同セッションK ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス » 合同セッションK ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス

[11p-D1-1~17] 合同セッションK ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス

2015年3月11日(水) 13:15 〜 17:45 D1 (16-101)

14:15 〜 14:30

[11p-D1-5] 酸化物半導体を低温溶液プロセスで作製する際のマイクロ波及び真空紫外光照射効果の確認

〇(PC)鄭 恵貞1、小倉 晋太郎1、吉田 学1、牛島 洋史1、福田 伸子1、植村 聖1 (1.産総研)

キーワード:酸化物半導体(IGZO)、薄膜トランジスタ、マイクロ波、光照射