[11p-D9-1~7] 斜め蒸着法，GLAD，STF等，シャドウイングによるナノ形態の制御と評価

[11p-D9-4] 反応性環境下での斜め堆積による化合物薄膜の離散的ナノ柱状構造形成

〇井上 泰志¹、高井 治² (1.千葉工大工, 2.関東学院大)

キーワード：自己遮蔽効果、プラズマプロセス、エレクトロクロミック