[11p-P2-1~15] 15.6 IV族系化合物

[11p-P2-12] SiC-MOSFETへのガンマ線照射効果の酸化膜作製プロセスによる違い

〇三友 啓^{1, 2}、松田 拓磨^{1, 2}、村田 航一^{1, 2}、横関 貴史^{1, 2}、牧野 高紘²、阿部 浩之²、小野田 忍²、大島 武²、大久保 秀一³、田中 雄季³、神取 幹朗³、吉江 徹³、土方 泰斗¹ (1.埼玉大学, 2.日本原子力機構, 3.サンケン電気)

キーワード：炭化ケイ素、ガンマ線、MOSFET