[12a-D1-1~12] 合同セッションＫ ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス

△ [12a-D1-9] 水熱合成ZnOターゲットを用いたZnO薄膜のヘリコン波励起プラズマスパッタエピタキシー(3)：浅い不純物に関する考察

〇山崎 芳樹¹、古澤 健太郎¹、岩橋 咲弥¹、小島 一信¹、秩父 重英¹ (1.東北大多元研)

キーワード：酸化亜鉛、中性ドナー束縛励起子