2015年第62回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

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[12p-P10-1~8] 8.3 プラズマ成膜・表面処理

2015年3月12日(木) 16:00 〜 18:00 P10 (総合体育館)

16:00 〜 18:00

[12p-P10-7] a-Si:H:Fの極低温合成とレーザーアニーリングによる結晶化

〇坂巻 直1、佐藤 哲也1、中川 清和1 (1.医工総研)

キーワード:アモルファスシリコン、ナノ結晶シリコン、極低温