2015年第62回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[12p-P16-1~19] 15.4 III-V族窒化物結晶

2015年3月12日(木) 16:00 〜 18:00 P16 (総合体育館)

16:00 〜 18:00

[12p-P16-10] 膜厚制御メサ加工基板を用いた電流制御型液相成長によるGaN横方向成長

〇岩川 宗樹1、高倉 宏幸1、冨田 将史1、神林 大介1、安井 亮太1、水野 陽介1、丸山 隆浩1、成塚 重弥1 (1.名城大理工)

キーワード:窒化ガリウム、液相成長