16:00 〜 18:00
▼ [12p-P16-5] Low-Temperature Growth of InN Films on Si(111) Substrates by Radical-Enhanced Metal-Organic Chemical Vapor Deposition
キーワード:InN,low-temperature growth,REMOCVD
一般セッション(ポスター講演)
15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶
2015年3月12日(木) 16:00 〜 18:00 P16 (総合体育館)
16:00 〜 18:00
キーワード:InN,low-temperature growth,REMOCVD