PDF ダウンロード スケジュール 6 いいね! 1 16:00 〜 18:00 [12p-P17-4] 伸張歪みSi/緩和SiGe/Si(110)の表面モフォロジーへの成長速度の影響 〇宇津山 直人1、佐藤 圭1、有元 圭介1、山中 淳二1、中川 清和1、宇佐美 徳隆2、澤野 憲太郎3 (1.山梨大クリスタル研, 2.名古屋大, 3.東京都市大総研) キーワード:半導体、シリコン、成長速度