[13a-A24-1~13] 13.3 絶縁膜技術

[13a-A24-5] XANES から推定したSiO₂/Si 界面の物性評価

〇森谷 真帆^{1, 2}、小林 大輔²、山本 知之¹、廣瀬 和之² (1.早大理工, 2.宇宙科学研究所)

キーワード：X線吸収端近傍構造、物性、界面