[13a-A27-1~13] 8.3 プラズマ成膜・表面処理

[13a-A27-6] スパッタを用いた低温高速層交換Ge結晶成長に対する基板温度の効果

〇古閑 一憲¹、市田 大樹¹、橋本 慎史¹、徐 鉉雄¹、山下 大輔¹、板垣 奈穂^{1, 2}、白谷 正治¹ (1.九大, 2.JST PRESTO)

キーワード：層交換結晶成長、スパッタリング、フレキシブルデバイス