2015年第62回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[13p-D10-1~10] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2015年3月13日(金) 16:30 〜 19:00 D10 (16-305)

18:30 〜 18:45

[13p-D10-9] 高い絶縁破壊電界強度を持ったナノ構造セラミックス成膜技術

〇渕田 英嗣1、時崎 栄治1、小澤 英一1 (1.有限会社渕田ナノ技研)

キーワード:電気絶縁抵抗