Hard X-ray photoelectron spectroscopy of epitaxially grown MxNi1-xO (M = Li, Mg)

Rosantha Kumara

講演情報

一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.4 量子ビーム界面構造計測

[14a-A16-1~11] 7.4 量子ビーム界面構造計測

2015年3月14日(土) 09:00 〜 12:00 A16 (6A-206)

09:45 〜 10:00

▲ [14a-A16-4] Hard X-ray photoelectron spectroscopy of epitaxially grown M_xNi_1-xO (M = Li, Mg)

〇(P)Rosantha Kumara¹, Anli Yang¹, Osami Sakata^1,², Ryosuke Yamauchi², Munetaka Taguchi³, Satoshi Ishimaru¹, Akifumi Matsuda², Mamoru Yoshimoto² (1.NIMS/SPring-8, 2.Tokyo Tech., 3.NAIST)

キーワード：Oxide thin film,Electronic structure,HAXPES

« このセッションの前の講演
このセッションの次の講演 »

▲

講演情報

[14a-A16-1~11] 7.4 量子ビーム界面構造計測

▲ [14a-A16-4] Hard X-ray photoelectron spectroscopy of epitaxially grown MxNi1-xO (M = Li, Mg)

▲ [14a-A16-4] Hard X-ray photoelectron spectroscopy of epitaxially grown M_xNi_1-xO (M = Li, Mg)