2015年第62回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術

[14a-A24-1~12] 13.3 絶縁膜技術

2015年3月14日(土) 09:00 〜 12:15 A24 (6A-217)

10:00 〜 10:15

[14a-A24-5] Al2O3/Ge構造に対する熱酸化にともなうGe表面からのGe原子放出過程

〇柴山 茂久1, 2、中嶋 薫3、坂下 満男1、中塚 理1、木村 健二3、財満 鎭明1, 4 (1.名大院工, 2.学振特別研究員, 3.京大院工, 4.名大エコトピア)

キーワード:ゲルマニウム、Al2O3、酸化