[14p-A29-1~8] 13.4 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[14p-A29-3] ミニマル抵抗加熱炉で形成した熱酸化膜の電気的特性（Ⅲ）

〇中戸 克彦¹、居村 史人¹、浅野 均¹、鈴木 真之佑^{1, 3}、松田 祥吾^{1, 3}、柳沼 綾美^{1, 3}、森川 清彦^{1, 3}、服部 昌^{1, 3}、池田 伸一^{1, 2}、クンプアン ソマワン^{1, 2}、原 史朗^{1, 2} (1.ミニマルファブ技術研究組合, 2.産業技術総合研究所, 3.光洋サーモシステム)

キーワード：ミニマル