[14p-A29-1~8] 13.4 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[14p-A29-5] 集光型赤外線加熱炉を用いたハーフインチシリコンCVD装置(4)

〇李 寧¹、羽深 等¹、三ケ原 孝則²、池田 伸一^{2, 3}、石田 夕起^{2, 3}、原 史朗^{2, 3} (1.横国大院工, 2.ミニマルファブ技術研究組合, 3.産総研)

キーワード：エピタキシャル成長