2015年第62回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[14p-A29-1~8] 13.4 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

2015年3月14日(土) 13:00 〜 15:00 A29 (6A-204)

14:30 〜 14:45

[14p-A29-7] ミニマル装置を使用したリソグラフィ工程の変動要因の解析

〇北山 侑司1、奥田 修史1、東野 泰英1、寶池 広由1、クンプアン ソマワン1, 2、原 史朗1, 2 (1.ミニマルファブ技術研究組合, 2.産総研)

キーワード:ミニマル、リソグラフィ