09:45 〜 10:00 [14a-A23-4] 電界印加によるYO1.5-HfO2基薄膜の結晶構造変化 〇清水 荘雄1、三村 和仙1、片山 きりは1、木口 賢紀2、赤間 章裕2、今野 豊彦2、坂田 修身3、舟窪 浩1 (1.東工大、2.東北大、3.物材機構)