廣瀬諒

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発表者・著者、共著者

2016年9月15日(木) 13:15 〜 18:45 A23 (201B)

一般セッション(口頭講演)
| 15 結晶工学
| 15.8 結晶評価，不純物・結晶欠陥

[15p-A23-1~20] 15.8 結晶評価，不純物・結晶欠陥

14:45 〜 15:00

△ [15p-A23-7] 炭素クラスターイオン注入Siエピウェーハの特徴(3) -多元素・分子イオン注入技術の開発検討 (2)-

〇廣瀬諒¹、奥山亮輔¹、門野武¹、柾田亜由美¹、古賀祥泰¹、奥田秀彦¹、栗田一成¹、宮本直樹² (1.株式会社ＳＵＭＣＯ、2.日新イオン機器株式会社)