15:00 〜 15:15 △ [14p-A37-8] FeドープNiOエピタキシャル薄膜の室温作製と特性評価 〇高野 詩織1、藤元 勇希1、土嶺 信男2、金子 智3,1、松田 晃史1、吉本 護1 (1.東工大物質理工、2.(株)豊島製作所、3.神奈川産技センター)