Marek Edward Schmidt

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発表者・著者、共著者

2016年9月13日(火) 09:30 〜 11:45 A32 (302B)

一般セッション(口頭講演)
| 17 ナノカーボン
| 17.2 グラフェン

[13a-A32-1~9] 17.2 グラフェン

11:15 〜 11:30

▲ [13a-A32-8] Helium ion milling of HSQ covered graphene: Control of substrate swelling and imaging disorder

〇(P)Marek Edward Schmidt¹、Ahmed Hammam^1,2、Manoharan Muruganathan¹、Shinichi Ogawa³、Hiroshi Mizuta^1,4 (1.JAIST、2.Minia Univ.、3.AIST、4.Southampton Univ.)

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