10:45 〜 11:00 [15a-A31-8] 対向ターゲットスパッタリングによるCu2O 薄膜の作製と評価 〇渡邉 光1、竹井 雄太郎2、滝口 雄貴2、宮島 晋介1 (1.東工大工学院、2.東工大院理工)