13:30 〜 15:30 [15p-P6-13] 酸素混合アルゴン表面波プラズマを用いた半導体エミッタの表面処理 〇渡邉 孝俊1、中野 嘉紀1、荻野 明久1、森岡 直也2、木村 裕治2 (1.静大院工、2.(株)デンソー)