09:30 〜 11:30 [16a-P5-19] 量産用MOCVDを用いた低SiドープGaN膜中のCとSi濃度制御 〇朴 冠錫1、矢野 良樹1、池永 和正1、三嶋 晃1、田渕 俊也1、松本 功1 (1.大陽日酸(株))