一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング
09:30 〜 09:45
〇松代 悠1、渡邉 歴1 (1.立命大院理工)
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09:45 〜 10:00
〇堀田 雄二1、音羽 亮平1、西立野 将史1、桜井 康樹1、鄭 麗和2、山本 浩史2、平等 拓範2 (1.santec、2.分子研)
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10:00 〜 10:15
〇新谷 實海1、足立 幸謙1、遠藤 雅守1、宇野 和行2 (1.東海大理、2.山梨大工)
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10:15 〜 10:30
〇大村 幸一郎1、山﨑 淳1、渡辺 賢一1、吉橋 幸子1、瓜谷 章1 (1.名大工)
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10:30 〜 10:45
〇片山 慶太1、吉田 岳人2、福岡 寛3、青木 珠緒1、杉村 陽1、梅津 郁朗1 (1.甲南理工、2.阿南高専、3.奈良高専)
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11:00 〜 11:15
〇(M2)今野 育1、中谷 一道1、小野 洋1、田中 勝己1 (1.電通大先進理工)
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11:15 〜 11:30
〇野尻 秀智1,2、大越 昌幸1 (1.防衛大、2.レニアス)
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11:30 〜 11:45
〇松田 大輔1、天野 覚1、後藤 信介1、芳賀 一実1、多久島 裕一2、東 伸2 (1.株式会社ナノシステムソリューションズ、2.株式会社オプトクエスト)
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11:45 〜 12:00
〇松永 亮太1 (1.防衛大電工)
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12:00 〜 12:15
〇ウィスヌ パンブディ セティオ1、大越 昌幸1、野尻 秀智1、山下 嗣人2 (1.防衛大学校、2.関東学院大学)
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