The 77th JSAP Autumn Meeting, 2016

Presentation information

Oral presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.3 Oxide electronics

[13a-A31-1~11] 6.3 Oxide electronics

Tue. Sep 13, 2016 9:00 AM - 11:45 AM A31 (302A)

Takayoshi Katase(Hokkaido Univ.)

9:45 AM - 10:00 AM

[13a-A31-4] Growth of VO2 thin films on ZnO/glass by reactive sputtering method and their properties

Kenta Sato1, Hiroaki Hoshino1, Md. Suruz Mian1, Kunio Okimura1 (1.Tokai Univ.)

Keywords:vanadium dioxide, oriented growth, zinc oxide

VO2は比較的室温に近い68℃付近で絶縁体-金属相転移(IMT)を示し, 赤外光領域の透過率も変化することから電気的, 光学的な応用が期待されている. 今回は低温成長によってフレキシブルデバイスへの応用が期待されているZnO上へVO2を低温成長させ, その電気的, 光学的な特性を調べた. 作成したVO2サンプルはZnO上へのb軸配向成長が見られ, 65℃付近から101ほどの転移特性が得られた. 講演ではこれらの電気的, 光学的特性について発表する.