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[13a-A32-2] パルスレーザー堆積法による大面積TiC薄膜の作製とそのグラフェン化
キーワード:グラフェン、炭化チタン、パルスレーザー堆積法
今回我々は、パルスレーザー堆積 (PLD) 法によりSiC (000-1) 上にTiC薄膜を均質かつ大面積に作製することを試みた。作製した試料のX線光電子分光スペクトル (Ti 2p) から、表面にTiC薄膜が形成したことが示唆された。また同一基板の原子間力顕微鏡形状像より均一な幅を持つ微細なステップテラス構造が観察された。これらの結果から、PLD法によってSiC基板上に均一なTiC薄膜が形成できたと期待される。