2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[13a-D61-1~12] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2016年9月13日(火) 09:00 〜 12:15 D61 (万代島ビル6階D1)

堀内 敏行(電機大)、平井 義彦(大阪府立大)、谷口 淳(東理大)、老泉 博昭(ギガフォトン)

11:30 〜 11:45

[13a-D61-10] 熱ナノインプリント法によるポリマーシート上への原子スケール形状転写における雰囲気・表界面状態の影響

木下 太一郎1、嶋田 航大1、小山 浩司2、三田 正弘3、金子 智4,1、松田 晃史1、吉本 護1 (1.東工大、2.(株)並木精密宝石、3.協同インターナショナル、4.神奈川県産技セ)

キーワード:熱ナノインプリント、原子スケール、ポリマー

ガラスやポリマーなど秩序構造を持たない非晶材料表面において、ナノサイズの周期的パターン形成による表面化学状態の変化や表面機能の発現は、新規な薄膜堆積基板などへの応用が期待される。本研究では、原子スケールパターン転写の因子を明らかにすることを目的として、ポリマーへの熱ナノインプリントにおける雰囲気およびモールド表面のバッファ物質が転写後の周期パターン形状や表面粗さに与える影響について検討した。