[13a-D61-1~12] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[13a-D61-12] 離型剤フリーレプリカモールドを用いたUV-NILにおける繰り返し転写耐久特性

〇谷口 淳¹、中川 元¹、日和佐 伸² (1.東理大、2.オーテックス)

キーワード：ナノインプリント、レプリカモールド、離型剤

離型剤フリーのレプリカモールドを用いて、紫外線ナノンプリントリソグラフィにおける転写耐久性を調べた。転写耐久性は、接触角とエラー率を用いて評価した。その結果、離型剤フリーレプリカモールドは、繰り返し転写1200回まで行うことができた。転写回数が多くなることで接触角は低下し、エラー率は上昇した。