2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[13p-A35-1~15] 13.9 光物性・発光デバイス

2016年9月13日(火) 13:15 〜 17:15 A35 (303-304)

小南 裕子(静岡大)、七井 靖(日大)

14:45 〜 15:00

[13p-A35-7] BeドープInGaAsPバルクにおけるスピン緩和時間のキャリア濃度依存性(10-300 K)

山田 築1、大木 俊介1、石川 友樹1、亀崎 拓也1、Lu Shulong2、Ji Lian2、竹内 淳1 (1.早大先進理工、2.SINANO-CAS)

キーワード:スピン、InGaAsP、キャリア濃度依存性

InGaAsPは太陽電池などの観点から応用が期待されており、スピンに対する研究も注目されている。ドーピングによるキャリア濃度の上昇によってキャリア寿命が短縮される報告はいくつかあるが、キャリア濃度とスピン緩和時間の関係について報告は少ない。本研究では、異なるキャリア濃度のInGaAsPバルクについてスピン緩和過程を時間分解ポンププローブ反射計測により調べ、キャリア濃度依存性を初めて明らかにした。