Effect of Width and Number of Slits in Faraday Shield on the Performance of Inductively Coupled Plasma

講演情報

一般セッション(口頭講演)

8 プラズマエレクトロニクス » 8.8 Plasma Electronics English Session

2016年9月13日(火) 14:45 〜 16:15 A41 (国際会議室)

14:45 〜 15:00

〇(M1)Makato Moriyama¹、Daisuke Ogawa¹、Ivan Ganachev^1,2、Keiji Nakamura¹ (1.Chubu Univ.、2.Shibaura Mechatronics)

キーワード：Plasma Processing, Inductively coupled plasma