[13p-P5-1~64] 17 ナノカーボン（ポスター）

[13p-P5-21] 赤外線照射プラズマCVD法によるグラフェン膜作成法の検討

〇根元 暁¹、齊藤 和馬¹、山内 繁²、小宮山 崇夫¹、長南 安紀¹、山口 博之¹、青山 隆¹ (1.秋田県立大、2.秋田県立大木高研)

キーワード：グラフェン、プラズマCVD

プラズマCVD（PCVD）法によるグラフェン膜作成に関しては、既にRFプラズマ、マイクロ波プラズマ、紫外照射法などが検討されてきたが、膜質の向上が大きな課題である。我々はこれまでPCVDにおいて、原料であるCH₄分子の伸縮振動を誘起する波長3.4μmの赤外線を照射することで、膜質向上の検討を行ってきた。今回、赤外線照射によるプラズマ出力低減の効果が確認された。