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[14a-A22-3] [8．プラズマエレクトロニクス 分科内招待講演] ますます拡がる材料・デバイスとプラズマプロセス
キーワード：プラズマプロセス、集積回路デバイス、新材料
プラズマプロセスは集積回路デバイスを製造する基幹技術として、エッチング、CVD等の製造工程で進化してきた。最近では、従来は部品実装組立で構成されていたデバイスの集積回路化も始まっている。微細化の進展に伴い、プラズマプロセスでは材料表面でのダメージ低減が重要課題である。講演では、集積回路デバイスへのLow-k材料、磁性材料などの新材料導入事例や、MEMS級の加工であるSiフォトニクス集積回路の試作事例を参照しつつ、プラズマプロセスの課題と技術開発における重要点を議論する