[14a-B12-1~11] 22.1 合同セッションM 「フォノンエンジニアリング」

[14a-B12-2] Si薄膜中エピタキシャルGeナノドット積層構造における熱伝導率の低減

〇渡辺 健太郎^1,2、山阪 司祐人¹、澤野 憲太郎³、中村 芳明^1,2 (1.阪大院基礎工、2.CREST-JST、3.東京都市大)

キーワード：シリコン、ナノドット、分子線エピタキシー