[14a-B12-1~11] 22.1 合同セッションM 「フォノンエンジニアリング」

[14a-B12-3] GaドープしたSi層/極薄Si酸化膜における熱伝導率の低減

〇奥畑 亮¹、上田 智広¹、成瀬 延康²、渡辺 健太郎^1,3、中村 芳明^1,3 (1.阪大院基礎工、2.北大高機構、3.CREST-JST)

キーワード：2ω法、ナノ構造、シリコン