11:30 AM - 11:45 AM
[14a-C31-8] The fabrication of a µ-Hillock on a Si wafer by using the long pulse laser at 1030nm
Keywords:Laser processing
本研究では、我々が2年前より開発してきた1030nm発振のパルス幅可変MOPAファイバーレーザを光源として、数十~数百ナノ秒のパルス幅におけるシングルパルスを用いることで、Siウェハ上に安定的に微細凸型形状の加工痕(µ-Hillock)を得たので報告する。