[14a-C31-1~10] 3.7 レーザープロセシング

[14a-C31-8] 1030nm発振ロングパルスレーザによるSiウェハ上のµ-Hillock形成

〇松田 大輔¹、天野 覚¹、後藤 信介¹、芳賀 一実¹、多久島 裕一²、東 伸² (1.株式会社ナノシステムソリューションズ、2.株式会社オプトクエスト)

キーワード：レーザ加工

本研究では、我々が2年前より開発してきた1030nm発振のパルス幅可変MOPAファイバーレーザを光源として、数十～数百ナノ秒のパルス幅におけるシングルパルスを用いることで、Siウェハ上に安定的に微細凸型形状の加工痕(µ-Hillock)を得たので報告する。