2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

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[14a-P6-1~20] 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2016年9月14日(水) 09:30 〜 11:30 P6 (展示ホール)

09:30 〜 11:30

[14a-P6-2] GaN多孔質構造の選択領域形成に関する検討

松本 悟1、熊崎 祐介1、佐藤 威友1 (1.北大量集セ)

キーワード:GaN、半導体

膨大なエネルギーを有する太陽光を、活用しやすい電気、化学エネルギーに変換する材料としてGaNを始めとした窒化物半導体が注目されている。我々はエネルギー変換効率の改善方法として、ナノサイズ孔が高密度配列した多孔質構造の形成について研究を進めてきたが、孔の形成位置がランダムであることが課題であった。本研究ではリソグラフィにより作製した加工基板を用いて、GaN多孔質構造の選択領域形成を試みた。