[14p-A37-1~17] 6.4 Thin films and New materials

△ [14p-A37-11] Phase and property control of MoO_X epitaxial thin films by post-annealing under uniaxial compression

〇Ryotaro Nanba¹, Nobuo Tsuchimine², Satoru Kaneko^3,1, Akifumi Matsuda¹, Mamoru Yoshimoto¹ (1.Tokyo Tech., 2.TOSHIMA Manu. Co., Ltd., 3.Kanagawa Ind. Tech. Center)

Keywords:Molybdenum oxide, epitaxial, thin film

遷移金属酸化物である酸化モリブデン(MoO_X)は，Mo⁶⁺からMo²⁺の広い化学状態に応じて，構造と物性が変化する．デバイス応用に向けて，MoO_Xエピタキシャル薄膜の結晶相，それに起因する物性制御が重要となるが，結晶相制御に関する報告はまだ少ない．​本研究では，MoO_Xエピタキシャル薄膜の作製と結晶相による特性の制御を目的とし，α-MoO₃薄膜のPLD法によるエピタキシャル成長と一軸加圧下熱処理による結晶相や特性の制御を行ったので報告する．