[14p-A37-1~17] 6.4 薄膜新材料

△ [14p-A37-11] 一軸加圧下熱処理によるMoO_X系エピタキシャル薄膜の結晶相及び特性の制御

〇難波 諒太郎¹、土嶺 信男²、金子 智^3,1、松田 晃史¹、吉本 護¹ (1.東工大物質理工、2.(株)豊島製作所、3.神奈川県産技セ)

キーワード：酸化モリブデン、エピタキシャル、薄膜

遷移金属酸化物である酸化モリブデン(MoO_X)は，Mo⁶⁺からMo²⁺の広い化学状態に応じて，構造と物性が変化する．デバイス応用に向けて，MoO_Xエピタキシャル薄膜の結晶相，それに起因する物性制御が重要となるが，結晶相制御に関する報告はまだ少ない．​本研究では，MoO_Xエピタキシャル薄膜の作製と結晶相による特性の制御を目的とし，α-MoO₃薄膜のPLD法によるエピタキシャル成長と一軸加圧下熱処理による結晶相や特性の制御を行ったので報告する．