[14p-A37-1~17] 6.4 薄膜新材料

△ [14p-A37-9] 反応性マグネトロンスパッタ法を用いた単相TiH₂薄膜のエピタキシャル成長

〇清水 亮太¹、笹原 悠輝¹、山本 邦子²、大口 裕之²、白木 将²、折茂 慎一^2,3、一杉 太郎^1,2,4 (1.東工大物質理工、2.東北大AIMR、3.東北大金研、4.JST-CREST)

キーワード：金属水素化物、エピタキシャル成長、マグネトロンスパッタリング