[14p-P10-1~25] Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices"（Poster）

[14p-P10-4] Low temperature growth of ZnMgO film grown by spin-coated method

Himeka Tominaga¹, 〇Kenji Yoshino¹, Takashi Minemoto², Shen Qing³, Taro Toyoda³, Yuhei Ogomi⁴, Shuji Hayase⁴ (1.Univ. Miyazaki, 2.Ritsumeikan Univ, 3.Univ. Electro-comm., 4.Kyusyu Inst.Tech)

Keywords:ZnMgO, Spin coat

近年、透明伝導膜は低コストやレアメタルの問題などで、ZnO がITO やFTO の代替材料とし
て注目されている。ZnO は、ITO やFTO に比べて、バンドギャップが小さい。太陽電池の高
効率化のためには、ZnO のバンドギャップを大きくし、短波長の光を取り組むことが重要であ
る。そこで、ZnO にMg を添加することでZnMgO を作製する。これまでに、希釈したジエチル
亜鉛（DEZ）を用いて、低温でZnO の作製に成功している。本研究では報告の少ないスピン
コート法によりZnMgO を室温で作製し、アニール温度変化を観察した。