[14p-P10-1~25] 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」（ポスター）

[14p-P10-4] スピンコート法によるZnMgO 膜の低温作製

富永 姫香¹、〇吉野 賢二¹、峯元 高志²、沈 青³、豊田 太郎³、尾込 裕平⁴、早瀬 修二⁴ (1.宮崎大工、2.立命館大理工、3.電通大理工、4.九工大)

キーワード：ZnMgO、スピンコート

近年、透明伝導膜は低コストやレアメタルの問題などで、ZnO がITO やFTO の代替材料とし
て注目されている。ZnO は、ITO やFTO に比べて、バンドギャップが小さい。太陽電池の高
効率化のためには、ZnO のバンドギャップを大きくし、短波長の光を取り組むことが重要であ
る。そこで、ZnO にMg を添加することでZnMgO を作製する。これまでに、希釈したジエチル
亜鉛（DEZ）を用いて、低温でZnO の作製に成功している。本研究では報告の少ないスピン
コート法によりZnMgO を室温で作製し、アニール温度変化を観察した。