The 77th JSAP Autumn Meeting, 2016

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Poster presentation

7 Beam Technology and Nanofabrication » 7.3 Micro/Nano patterning and fabrication

[14p-P16-1~8] 7.3 Micro/Nano patterning and fabrication

Wed. Sep 14, 2016 4:00 PM - 6:00 PM P16 (Exhibition Hall)

4:00 PM - 6:00 PM

[14p-P16-4] Pattern Formation by EB/UV Hybrid Lithography

Akira Kawai1, 〇(M1)Tomohiro Maruyama1, Hiroki Nakano1 (1.Nagaoka Univ. Tech.)

Keywords:electron beam lithography, photolithography, photoresist

機能性パターンの製造技術が注目されており,機能的な三次元構造の実現を試みてきた.これに関係して,高さの異なるパターン形成が重要となる.しかし,一般的なリソグラフィによって,高さの異なるパターンを形成するには,塗布と現像プロセスを複数回繰り返して行う必要がある.本研究では,電子線照射とUV露光プロセスを組み合わせた複合リソグラフィにより,異なる高さのパターンを1回の現像プロセスで形成する手法を示す.