4:00 PM - 6:00 PM
[14p-P16-4] Pattern Formation by EB/UV Hybrid Lithography
Keywords:electron beam lithography, photolithography, photoresist
機能性パターンの製造技術が注目されており,機能的な三次元構造の実現を試みてきた.これに関係して,高さの異なるパターン形成が重要となる.しかし,一般的なリソグラフィによって,高さの異なるパターンを形成するには,塗布と現像プロセスを複数回繰り返して行う必要がある.本研究では,電子線照射とUV露光プロセスを組み合わせた複合リソグラフィにより,異なる高さのパターンを1回の現像プロセスで形成する手法を示す.