[14p-P16-1~8] 7.3 Micro/Nano patterning and fabrication

[14p-P16-3] Dielectric Dispersion Analysis of Resist Materials used for lithography

〇Hodaka Shirataki¹, Akira Kawai¹, Shogo Ohtani¹, Hiroki Sasazaki¹ (1.Nagaoka Univ. Tech.)

Keywords:Dielectric property, SU-8, DFR

MEMSおよびμ-TASには、しばしばレジスト膜を永久材料として用いる。デバイス動作上では、レジスト膜の誘電特性が重要となる。そこで、本研究では、SU-8およびDFRレジスト材料の誘電率と緩和時間をキャパシタ法により測定し、誘電緩和現象および緩和時間を見積もった。