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△ [14p-P16-2] Self-Assembled Network (SAN) Structure Formed in Photoresist Film by Spin Coating Method
Keywords:self-assembled network structure, spin coating, photoresist
一般的に膜厚10nm以下のキャスト法で形成した超薄膜には,自己組織化ネットワークパターン(SAN)構造と呼ばれる不連続な網目状パターンが現れる.本研究では,フォトレジスト膜および低凝集力のフッ素系高分子のSAN構造に注目した.SAN構造は,スピンコート法によって形成されることを示した.また,レジスト膜の極表面層に硬化層が形成されるため,SAN構造はスピン乾燥時の硬化層形成が支配的であると考察した.