The 77th JSAP Autumn Meeting, 2016

Presentation information

Poster presentation

7 Beam Technology and Nanofabrication » 7.3 Micro/Nano patterning and fabrication

[14p-P16-1~8] 7.3 Micro/Nano patterning and fabrication

Wed. Sep 14, 2016 4:00 PM - 6:00 PM P16 (Exhibition Hall)

4:00 PM - 6:00 PM

[14p-P16-2] Self-Assembled Network (SAN) Structure Formed in Photoresist Film by Spin Coating Method

〇(M1)Tomohiro Maruyama1, Hiroki Nakano1, Akira Kawai1 (1.Nagaoka Univ. Tech.)

Keywords:self-assembled network structure, spin coating, photoresist

一般的に膜厚10nm以下のキャスト法で形成した超薄膜には,自己組織化ネットワークパターン(SAN)構造と呼ばれる不連続な網目状パターンが現れる.本研究では,フォトレジスト膜および低凝集力のフッ素系高分子のSAN構造に注目した.SAN構造は,スピンコート法によって形成されることを示した.また,レジスト膜の極表面層に硬化層が形成されるため,SAN構造はスピン乾燥時の硬化層形成が支配的であると考察した.