[14p-P16-1~8] 7.3 Micro/Nano patterning and fabrication

[14p-P16-4] Pattern Formation by EB/UV Hybrid Lithography

Akira Kawai¹, 〇(M1)Tomohiro Maruyama¹, Hiroki Nakano¹ (1.Nagaoka Univ. Tech.)

Keywords:electron beam lithography, photolithography, photoresist

機能性パターンの製造技術が注目されており，機能的な三次元構造の実現を試みてきた．これに関係して，高さの異なるパターン形成が重要となる．しかし，一般的なリソグラフィによって，高さの異なるパターンを形成するには，塗布と現像プロセスを複数回繰り返して行う必要がある．本研究では，電子線照射とUV露光プロセスを組み合わせた複合リソグラフィにより，異なる高さのパターンを1回の現像プロセスで形成する手法を示す．