[14p-P16-1~8] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[14p-P16-4] 電子線照射／UV露光ハイブリッドリソグラフィによるレジストパターンの形成

河合 晃¹、〇(M1)丸山 智大¹、中野 弘基¹ (1.長岡技科大)

キーワード：電子線リソグラフィ、光リソグラフィ、フォトレジスト

機能性パターンの製造技術が注目されており，機能的な三次元構造の実現を試みてきた．これに関係して，高さの異なるパターン形成が重要となる．しかし，一般的なリソグラフィによって，高さの異なるパターンを形成するには，塗布と現像プロセスを複数回繰り返して行う必要がある．本研究では，電子線照射とUV露光プロセスを組み合わせた複合リソグラフィにより，異なる高さのパターンを1回の現像プロセスで形成する手法を示す．