[15a-A22-1~11] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[15a-A22-2] 多結晶 Ga 添加 ZnO 透明導電膜の表面吸着子に与える酸素負イオン照射の効果

〇野本 淳一¹、牧野 久雄^1,2、北見 尚久^1,3、酒見 俊之³、小畠 雅明⁴、岡根 哲夫⁵、藤森 伸一⁵、山上 浩志^5,6、小林 啓介^1,5、山本 哲也¹ (1.高知工科大総研、2.高知工科大システム工、3.住友重機械工業株式会社、4.原子力機構 廃炉国際共同研究センター 核種挙動解析Gr.、5.原子力機構 物質科学研究センター 電子構造物性研究 Gr.、6.京都産業大学)

キーワード：透明酸化物、ZnO

本研究では、反応性プラズマ蒸着法 (RPD) により成膜された多結晶 Ga 添加 ZnO (GZO) 膜における表面付近での点欠陥や吸着子の制御を目的とする。その解決策として、アフターアークプラズマ環境下で生成する酸素負イオン (O^-) を用いるイオン照射装置を開発した。本発表では、その効果をX線光電子分光 (XPS) 法を用いて考察したその検討結果を報告する。