The 77th JSAP Autumn Meeting, 2016

Presentation information

Oral presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.3 Oxide electronics

[15a-A31-1~13] 6.3 Oxide electronics

Thu. Sep 15, 2016 9:00 AM - 12:15 PM A31 (302A)

Makoto Minohara(KEK)

9:15 AM - 9:30 AM

[15a-A31-2] Niobium Oxide film deposited by reactive sputtering with plasma emission feedback system

Mai Saito1, Junjun Jia1, Shinichi Nakamura1, Gloess Daniel2, Yuzo Shigesato1 (1.Aoyama-Gakuin Univ., 2.FEP)

Keywords:dielectric function, reactive sputtering, niobium oxide

ニオブ酸化物は様々なストイキオメトリーのものが存在し、LiNbO3のような強誘電体もあればNbOのように低原子価状態で超電導を示す化合物もあり、最近では光学ガラスの屈折率調整など光学系薄膜としてNb2O5が用いられている。本研究ではプラズマ発光制御法を用いた反応性スパッタ法により、酸素組成比が精密に制御された様々な化学量論組成の酸化ニオブ薄膜を作製し、400~600℃で焼成した薄膜の構造と諸特性を解析した。