2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.2 探索的材料物性・基礎物性

[15a-B3-1~9] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

2016年9月15日(木) 09:00 〜 11:15 B3 (展示控室3)

末益 崇(筑波大)、山口 憲司(量研機構)

11:00 〜 11:15

[15a-B3-9] Mg2Si薄膜の固層成長におけるAg添加の影響と二段階熱処理の効果

〇(M1)和田 英之1、鈴木 健浩1、安田 剛1、勝俣 裕1、片岡 朋治2、山本 栄也2、広納 慎介2、石切山 守2 (1.明大理工、2.トヨタ自動車（株）)

キーワード：Mg2Si、固相成長、X線回折